集成电路光刻工艺环节，包括涂胶、光刻、显影、刻蚀、去胶、清洗、烘干等，因此光刻工艺设备，主要是指光刻机、涂胶显影设备、去胶设备，光刻工艺材料主要是指光刻胶。http://www.hibor.com.cn【慧博投研资讯】国产光刻机、涂胶显影设备处于所有集成电路工艺设备国产化最薄弱环节，而光刻胶国产化也处于起步阶段，从自主可控角度，光刻工艺环节的设备与材料应从产业链上中下游重点扶植、培育。http://www.hibor.com.cn（慧博投研资讯）
　　报告要点
　　2019年全球光刻机销量359台，同比下降5%，销售额估计为107亿美元，同比增长10%。根据ASML、Canon、Nikon季报数据统计，2016-2019年全球光刻机销量依次是245台、298台、379台、359台，2017-2019年依次同比增长22%、27%、-5%；参考ASML光刻机单价推算，我们估计2016-2019年全球光刻机销售额依次是61、75、98、107亿美元，2017-2019年依次同比增长24%、30%、10%。
　　DUV和EUV工艺支撑ArF i、EUV光刻机需求强劲。2019年光刻机销量359台，其中EUV26台，ArF i 93台，ArF dry 35台，KrF 91台，i-Line 114台，分别同比增长44%、0%、30%、-19%、-11%，EUV与ArF i销量合计占比1/3，参考ASML光刻机单价推算，2019年光刻机按销售额计算的EUV占28%，ArFi占54%，ArF dry占5%，KrF占10%，i-Line占3%，EUV与ArF i销售额合计88亿美元占比82%，同比增长15%
　　ASML、Canon、Nikon市占率依次为89%、3%、8%。2019年按销量计算ASML市占率64%，Canon市占率23%，Nikon为13%，ASML和Nikon市占率上升；按销售金额计算ASML的市占率89%，Canon市占率3%，Nikon为8%，Nikon市占率上升而Canon市占率下降。分产品看，EUV设备市场上ASML市占率保持100%；ArF i市场上ASML市占率88%，Nikon市占率12%，ArF dry市场上ASML市占率63%，Nikon市占率37%；KrF市场上ASML、Canon、Nikon市占率分别为71%、24%、4%，i-Line三家公司市占率依次是30%、54%、16%；各类光刻机的竞争格局整体上变化不大。
　　国产光刻机市占率接近零，上微承担光刻机国产化重任。根据中国国际招标网对12寸线的统计，CMP、刻蚀设备、清洗设备、PVD设备、热处理设备、去胶设备国产化趋势相对较好，但涂胶显影、量测、离子注入机、CVD等国产化率偏低，光刻机尚未取得零的突破，大陆光刻机市场也被ASML、Canon、Nikon垄断。随着类似燕东微、上海积塔、士兰微厦门项目等成熟制程及特色工艺产线的建产，光刻机仍然存在国产化机遇。
　　大陆涂胶显影设备市场被TEL垄断，12寸线国产化率接近为0%。据Gartner数据，2018年全球涂胶显影设备市场规模约23亿美元，其中东电电子TEL市占率为88%，迪恩士和Semes合计占有10%左右，市场集中度高。根据中国国际招标网统计，TEL在中国大陆的市占率92%，处于绝对垄断地位；涂胶显影设备国产化率仅为5%。沈阳芯源承担涂胶显影国产化重任，其前道I-line涂胶显影机已在长江存储上线进行工艺验证；前道Barc（抗反射层）涂胶设备在已在上海华力上线测试应用，可满足客户28nm技术节点加工工艺。
　　掩膜板主要来自日美厂商，国产化之路遥远。根据SEMI，全球掩模板市场规模36亿美元，约占半导体材料的13%左右，掩膜板市场主要被日本TOPPAN、DNP、Photronics、中国台湾光罩等国际品牌垄断，EUV光刻胶。
　　国产掩膜板供应商主要是路维光电、清溢光电、中芯国际，其中路维光电主要经营面板、IC封装、PCB等掩膜板，清溢光电前五大客户主要是BOE、天马、华星光电等面板企业，其IC掩膜板与国际厂商还有很大差距。
　　国产光刻胶也有布局。2018年全球光刻胶市场规模17亿美元，主要被JSR、东京应化、富士电子材料、信越化学等日本企业垄断。国产从事光刻胶研发和生产的企业包括北京科华微电子、江苏瑞红电子、南大广电、上海新阳（子公司上海芯刻微材料）等。